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      當前分類數量:253  點擊返回 當前位置:首頁 > 中圖法 【TN3 半導體技術】 分類索引
      • 半導體干法刻蝕技術
        • 半導體干法刻蝕技術
        • (日)野尻一男著/2024-1-1/ 機械工業出版社/定價:¥89
        • 本書不僅介紹了半導體器件中所涉及材料的刻蝕工藝,而且對每種材料的關鍵刻蝕參數、對應的等離子體源和刻蝕氣體化學物質進行了詳細解釋。本書討論了具體器件制造流程中涉及的干法刻蝕技術,介紹了半導體廠商實際使用的刻蝕設備的類型和等離子體產生機理,例如電容耦合型等離子體、磁控反應離子刻蝕、電子回旋共振等離子體和電感耦合型等離子體,

        • ISBN:9787111742029
      • 寬禁帶半導體功率器件
        • 寬禁帶半導體功率器件
        • (美)賈揚·巴利加(B. Jayant Baliga)等著/2024-1-1/ 機械工業出版社/定價:¥149
        • 本書系統地討論了第三代半導體材料SiC和GaN的物理特性,以及功率應用中不同類型的器件結構,同時詳細地討論了SiC和GaN功率器件的設計、制造,以及智能功率集成中的技術細節。也討論了寬禁帶半導體功率器件的柵極驅動設計,以及SiC和GaN功率器件的應用。最后對寬禁帶半導體功率器件的未來發展進行了展望。

        • ISBN:9787111736936
      • 新型電致發光材料與器件
        • 新型電致發光材料與器件
        • 唐愛偉、胡煜峰、崔秋紅 等 編著/2024-1-1/ 化學工業出版社/定價:¥79
        • 目前以有機/聚合物和半導體量子點為代表的新型電致發光材料與器件受到了國內外眾多企業和人士的廣泛關注。本書從新型電致發光材料與器件原理,以及關鍵材料的開發與應用技術出發,內容涵蓋有機電致發光概念與過程、有機電致發光材料、有機電致發光器件、半導體量子點材料、半導體量子點電致發光器件、鹵素鈣鈦礦材料及其電致發光器件等。全書反

        • ISBN:9787122405593
      • 半導體制造過程的批間控制和性能監控
        • 半導體制造過程的批間控制和性能監控
        • 鄭英,王妍,凌丹/2023-11-1/ 科學出版社/定價:¥128
        • 本書基于當前半導體行業制造過程中存在的問題,介紹了多種改進的批間控制和過程監控算法及其性能。第1章為半導體制造過程概述,包括國內外研究現狀和發展趨勢。第2、3章介紹批間控制、控制性能和制造過程監控。第4~7章討論機臺干擾、故障、度量時延對系統性能的影響,提出多種批間控制衍生算法,包括雙產品制程的EWMA批間控制算法、變

        • ISBN:9787030708175
      • 半導體干法刻蝕技術:原子層工藝
        • 半導體干法刻蝕技術:原子層工藝
        • [美]索斯藤·萊爾/2023-10-1/ 機械工業出版社/定價:¥119
        • 集成電路制造向幾納米節點工藝的發展,需要具有原子級保真度的刻蝕技術,原子層刻蝕(ALE)技術應運而生!栋雽w干法刻蝕技術:原子層工藝》主要內容有:熱刻蝕、熱各向同性ALE、自由基刻蝕、定向ALE、反應離子刻蝕、離子束刻蝕等,探討了尚未從研究轉向半導體制造的新興刻蝕技術,涵蓋了定向和各向同性ALE的全新研究和進展!栋

        • ISBN:9787111734260
      • SMT工藝不良與組裝可靠性(第2版)
        • SMT工藝不良與組裝可靠性(第2版)
        • 賈忠中/2023-10-1/ 電子工業出版社/定價:¥188
        • 本書以工程應用為目標,聚焦基本概念與原理、表面組裝核心工藝、主要組裝工藝問題及最新應用問題,以圖文并茂的形式,介紹了焊接的基礎原理與概念、表面組裝的核心工藝與常見不良現象,以及組裝工藝帶來的可靠性問題。全書結合內容需求,編入了幾十個經典案例,這些案例非常典型,不僅有助于讀者深入理解有關工藝的概念和原理,也可作為類似不良

        • ISBN:9787121464133
      • 多尺度模擬方法在半導體材料位移損傷研究中的應用
        • 多尺度模擬方法在半導體材料位移損傷研究中的應用
        • 賀朝會,唐杜,臧航,鄧亦凡,田賞/2023-10-1/ 科學出版社/定價:¥150
        • 本書系統介紹了用于材料位移損傷研究的多尺度模擬方法,包括輻射與材料相互作用模擬方法、分子動力學方法、動力學蒙特卡羅方法、第一性原理方法、器件電學性能模擬方法等,模擬尺寸從原子尺度的10.10m到百納米,時間從亞皮秒量級到106s,并給出了多尺度模擬方法在硅、砷化鎵、碳化硅、氮化鎵材料位移損傷研究中的應用,揭示了典型半導

        • ISBN:9787030764690
      • 半導體濕法刻蝕加工技術
        • 半導體濕法刻蝕加工技術
        • 陳云,陳新/2023-9-1/ 科學出版社/定價:¥89
        • 本書全面闡述了半導體刻蝕加工及金屬輔助化學刻蝕加工原理與工藝,詳細講述了硅折點納米線、超高深徑比納米線、單納米精度硅孔陣列三類典型微/納米結構的刻蝕加工工藝,并對第三代半導體碳化硅的電場和金屬輔助化學刻蝕復合加工、第三代半導體碳化硅高深寬比微槽的紫外光場和濕法刻蝕復合加工工藝進行了詳細論述。

        • ISBN:9787030747440
      • 單元紅外探測器載流子輸運機理/國防科技大學建校70周年系列著作
        • 單元紅外探測器載流子輸運機理/國防科技大學建校70周年系列著作
        • 邱偉成,程湘愛,胡偉達著/2023-8-1/ 國防科技大學出版社/定價:¥108
        • 本書介紹了紅外探測領域的基本概念、研究進展和發展趨勢。全書旨在為從事紅外探測器設計以及應用的科研人員,深入介紹本領域的專業基礎、分析方法、技術進展和發展趨勢,為新型紅外焦平面器件的研發提供一定的基礎理論指導和技術支持。

        • ISBN:9787567306172
      • 絕緣層表面能對有機晶體管遷移率的調控分析及應用
        • 絕緣層表面能對有機晶體管遷移率的調控分析及應用
        • 周淑君著/2023-8-1/ 冶金工業出版社/定價:¥69
        • 本書主要介紹了通過分析在不同絕緣層制備的有機場效應晶體管性能,得出絕緣層與半導體層表面能匹配可以提高場效應遷移率的規律。全書共4章,具體內容包括:有機場效應晶體管簡介及發展現狀分析,Ph5T2單晶場效應晶體管的制備及其性能分析,表面能匹配對于不同單晶材料普適性的討論,以及利用表面能匹配為指導制備高遷移率DNTT單晶場效

        • ISBN:9787502496234
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